Possui Bacharel em Física pela Universidade da Havana com mestrado em Ciência e Tecnologia de Materiais pelo Instituto de Ciência e Tecnologia de Materiais da Universidade da Havana, Doutorado em Nanociência e Materiais Avançados pela Universidade Federal do ABC (UFABC) e pós-doutorados pela FEEC-Unicamp, desenvolvido no CCSNano e pelo Centro de tecnologia da Informação Renato Archer na Divisão de Montagem, Empacotamento e Integração de Sistemas, e na Divisão de Nano, Microssistemas e Materiais. Tem experiência na área de física do estado sólido, física dos semicondutores e física da matéria condensada, com pesquisas em células fotovoltaicas baseadas em camadas ultrafinas de semicondutores do grupo II-VI e em fenômenos termoelétricos com células de efeito Seebeck e de efeito Peltier, baseadas em perovskitas de manganês e cobalto dopadas com terras raras (lantânio e Samário). Amplos conhecimentos na área de micro/nanoeletrônica e componentes semicondutores com ênfase em propriedades estruturais, elétricas e de transporte em estruturas MOS contendo nanopartículas de Ge e SiGe para aplicações em dispositivos de memórias não voláteis de porta flutuante discreta, Memristors e tecnologia MOS; na área de empacotamento eletrônico dentro do contexto de desenvolvimento e caracterização de camadas depositadas de filmes finos para aplicação em dispositivos MCM-D (Multichip Modules), e na área de fotônica em atividades de prototipagem de dispositivos fotônicos e fabricação de microchips fotônicos usando a plataforma de filmes finos de LiNbO3 sobre sílica, nos quais seja possível manipular estados quânticos da luz para serem utilizados em protocolos de informação quântica. Possui uma extensa experiência em técnicas de deposição (LPCVD, ECR-CVD, PECVD, Sputtering, deposição eletrolítica, deposição química, etc.) e caracterização (SEM, Raman, XDR, AFM, elipsometria, 4 pontas, perfilometría, etc.) tanto de filmes finos quanto de nanoestruturas. Também na área de microfabricação de dispositivos eletrônicos e fotônicos, com vastos conhecimentos de litografia tanto óptica, incluindo a operação das fotoalinhadoras MJB3 e MicroWriter ML3 (Maskless/escrita direta) quanto por feixe de elétrons utilizando um Microscópio Eletrônico SEM-FEG Mira 3 XMU Tescan e o Raith e-Line, processos de fabricação por lift-off e corrosão (úmida e por plasma), desenvolvimentos de layouts com os softwares CleWin, Klayout e DrawBeam (SEM-FEG Mira 3 XMU Tescan), utilização de fotoresistes, BCB, PMMA, maN, e SU8 para litografias tanto de campo claro quanto de campo escuro, bem como a utilização de diferentes tipos de substratos (Silício, SOI, Alumina, Vidro, SiC, etc.) e atividades de sala limpa em geral. Também possui uma ampla experiência na área de docência.

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